第21章 技壓全場
當即，一個看不慣許一秋的年輕學者就從座位前站了起來。
“他許一秋憑什麼能當科研組長？”
“就憑他是由國家舉薦來的嗎？”
“那這跟靠背景上位有什麼區別？”
此話一出。
現場的眾人全都跟著議論了起來。
都覺得許一秋肯定是靠走後門才進來的。
“如果一個人靠走後門，就能輕而易舉的拿到實驗組組長的位置。”
“那我們這些努力了這麼久的研究員又算什麼呢？”
“果真是這樣的話，那國內的科研領域，還有什麼希望！直接原地解散吧！”
他憤怒的說道。
臺下的眾人更是一個個義憤填膺。
“就是，他有什麼資格，剛來就能當上組長？”
“我們在座的各位，哪一個不比他更有資質？”
再次看向許一秋時，一些研究員們的眼神除了不屑，更多的則是仇視。
顯然，吳富國的這一抉擇，徹底引發了他們的不滿。
此時，臺上的吳富國，倒是顯得十分鎮定。
似乎早就已經意料到了他的決定，大機率會引發科研團隊們的怨氣。
他轉頭看向臺下的許一秋。
想要看看對方應該如何解決眼下的質疑。
在他看來。
一個人能夠擔任專案組長。
除了過於紮實的能力之外，也需要具備過人的膽識和魄力。
如果許一秋連應對這點問題的魄力都沒有。
那就算他選擇了對方做專案組長，那之後也會因為質疑，遭到專案組全體成員們的不服和抵制。
所以，吳富國的內心深處，是想有意考驗一下許一秋的。
倘若他無法應對質疑聲。
哪怕他有足夠的業務能力，最終也只能退居二流，充當科研技術顧問。
而此時臺下的許一秋，在面對眾人不善的目光和質疑聲中，依舊保持著淡然自若。
緊接著，在眾人疑惑的注視下。
他緩緩起身走上了講臺。
“我知道大家對我的年齡和資歷都感到質疑和不滿。”
“認為我沒有能力做專案組的組長。”
“倘若是大家做了組長，不妨問問自己，你真的有足夠清晰的思路，解決目前的光刻機難題嗎？”
許一秋站在臺上，面無表情的望著臺下淡然說道。
如此狂妄的話。
再次引起了臺下眾人的憤然。
“別說風涼話。”
“你敢丟擲這樣的問題。”
“難道你就能解決？”
底下一名年輕的研究員輕蔑地看著許一秋，直接譏嘲道。
許一秋沒有直接回答他的話。
而是來到臺上的黑板面前，用粉筆在上面簡單的繪出了一張簡陋的模型圖。
“剛剛吳院士說了，目前我們最主要的難題，就在光刻機的光學系統和極端紫外光源上面。”
“我們先從光學系統上面分析。”
“眾所周知，光刻機的光學系統主要包括照明系統和投影系統以及檢測系統。”
許一秋一邊說著，一邊用粉筆在黑板上面寫下了相關技術名詞。
臺下的眾多科研學者在看到這一幕後，這才稍微冷靜了下來，重新坐回了原位。
他們倒想看看。
這個二十歲出頭的年輕人，究竟能講出些什麼名堂出來。
“目前國外最先進的光刻機科技公司阿斯麥所採用的關鍵技術是，多層Mo/Si鏡片以及脫殼鏡架結構。”
許一秋繼續講解道。
臺下頓時有人冷言譏諷道：“你說的這些誰不知道？我們難道不比你更清楚他們的核心技術？”
“但你以為專利法是幹嘛用的？如果我們不開拓出新的思路技術，就算他們把技術白送給我們，我們也用不了！”
許一秋沒有理會他。
繼續說道：“他們的技術雖然先進，但仍面臨著一系列的問題。”
“如，他們所有的光學元件需要採用反射結構，透射率極低。”
“光束傳輸與成像系統需要控制EUV光的波前變形。”
臺下原本還充斥著一小搓的議論聲。
在聽完許一秋一針見血的分析後，瞬間寂靜了下來。
整個會議廳，安靜的彷彿能夠聽到人們的呼吸聲。
再反觀他們的神情，早已從剛剛的不屑，漸漸轉變成了驚愕之色。
就連臺上吳富國都神色震驚，似乎是被許一秋剛剛的言論驚住了。
因為直到目前為止，都沒有人能夠分析出阿斯麥光學系統所存在的缺陷。
但今天，許一秋卻當著全體科研學者的面，極為準確的指出了國外光刻機所存在的問題。
要知道。
阿斯麥的光刻機，可是掌握著全世界最先進的EUV技術！
然而，從許一秋的表現來看。
就好像一個大學生在分析一道小學生數學中存在的問題似的。
這讓他們豈能不震驚？
“所以，在已知目前所存在的問題上面。”
“我們就可以透過其他的方案設計，做出完全區別於阿斯麥的EUV光刻機，甚至在技術方面，遠超於它！”
許一秋淡淡的說道。
但就是這句在許一秋看來極為平常的一句話。
讓整個會議廳的科研學者們直接炸鍋了。
一群人接二連三的從座位上站了起來，臉色劇烈變換。
“首先，我很承認你對光學系統的準確分析。”
“但，即便阿斯麥的光刻機存在一定的缺點，但你不可否認，它仍然是目前世界上最先進的機器！”
“我們為了研究類似的光刻機技術，你知道我們攻克了多少年嗎？”
“整整三十多年！”
“但也僅僅只是縮短了一點差距！”
“你剛剛居然說造出超越阿斯麥技術的光刻機，恕我直言，這簡直是痴人說夢。”
一名五十多歲的老教授緊緊地望著臺上的許一秋，激動的說道。
面對眾人再次投來的質疑眼神。
許一秋只是微微一笑。
“我為何有這個自信？”
話音剛落。
他就再次拿起一根粉筆在黑板上面寫下了一個新的名詞。
“多通道設計。”
“我們採用分光技術，將EUV的光分成多個通道，每個通道僅負責照明場的一部分割槽域，這就可以完美解決高照度的同時，又可單獨最佳化每個通道的成像。”
話畢。
還不等眾人震驚。
他又立馬快速寫下了新的資料。
“除了使用Mo/Si多層鏡。”
“大家忽視了一些更為重要的材質。”
“只要使用鉬矽酸鹽，鉬鵬等新型多層鏡即可獲得更好的反射率。”